Однофотонный излучатель на основе одиночной квантовой точки, включающий полупроводниковую подложку GaAs, верхний и нижний высоколегированный эпитаксиальный контактный слой GaAs, верхний и нижний металлические контакты, верхний и нижний полупроводниковые распределенные брэгговские отражатели из N пар слоев GaAs/AlGaAs, между которыми расположена активная область на основе слоя GaAs, отличающийся тем, что активная область содержит одиночную квантовую точку InAs и заключена в оксидное кольцо (Al,Ga)Ox, задающее токовую и оптическую апертуры.